ナノ・マイクロマシニングのための新規プラズマエッチングプロセス
伊藤 昌文 (和歌山大学)
プローブアレイや光MEMSでは光ファイバーをはじめとする絶縁体の立体構造物への微細加工が重要となってきた。このような加工では,試料にバイアスがかけにくいためプラズマエッチングを適用することは困難である。本研究では,電子ビームを用いて生成するプラズマをパルス変調する新しいプラズマ制御法を開発した。本講演では本手法によりバイアス電源なしで高速異方性エッチングを実現した研究成果を中心に紹介する。
「光メカトロニクス」公開シンポジウム
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